白光LED荧光粉 Led荧光粉

LED半导体照明网讯11月5日国务院在总理李克强的主持下召开的国务院常务会议中，关于加强知识产权保护，知识产权被认为是发展的重要资源和竞争力的核心要素。

其中提到了四点：1要加强知识产权保护，鼓励创新创造。二要促进专利、著作权、商标、植物新品种等的创造和运用，向社会尤其是创新者免费或低成本提供知识产权的基础信息。三要建立国家科技重大专项和科技规划知识产权目标评价制度，促进创新成果转移化。必须加强四财税金融支援。国家政策致力于知识专利的保护，LED行业的专利现状如何。现在的白光LED芯片和荧光体的知识产权显示了以下概述。

LED专利领域的世界专利超过12万件，核心专利主要在国外企业手中，中国企业在技术和专利方面落后于国外企业。LED以前端为例，现在在国内被授权的约470件外延专利中有350件以上是海外企业申请的，国内企业的申请授权量为110件左右，一部分是实用新型专利。在国内被授权的芯片专利约7成掌握在海外企业手中，国内企业只不过3成。专利技术的积累不足面临着国内LED行业如何进行专利防御、回避专利风险等一系列问题。

白光LED以其高效节能、绿色环保等特点引起了照明领域的第三次革命，现在LED的领域在五大工厂中处于领先地位，韩国、中国台湾企业在那之后成为了中国企业集中在产业中下游的结构。白光的通常实现方式可以分为单晶型和多晶型，因为无论哪种方式芯片都必须少，所以LED芯片的知识产权非常重要。同时，现在主流的白光实现方案多以芯片加荧光体方式实现，所以白光LED知识产权主要集中在芯片和荧光体两个方面。

一、白光LED芯片知识产权概况

白光LED芯片的制造主要包括基板、缓冲层、外延（功能层，特别是发光区域）、芯片制造、电极等。主要的基板材料是蓝宝石和碳化硅，蓝宝石衬底技术是日亚化学开发，碳化硅基板技术是科锐公司开发。日亚化学蓝宝石衬底专利有JP2632239（92.06）、JP2795294（93.04）等，这些专利基本上只在日本申请专利，在其他国家或地区未申请同族。从日亚的蓝宝石衬底专利布局来看，在日本以外的地区将蓝宝石作为基板使用本身就不构成权利侵害。科锐公司碳化硅基板技术的核心US5631190等在中国被授予同族专利，因此使用碳化硅基板的权利侵害的风险很大。目前，硅衬底技术的发展受到各企业的重视，国内该技术有一定的专利积累，这种技术的发展对国内企业回避知识产权风险有一定的意义。

缓冲层材料一般有AlN缓冲层、GaN缓冲层、SiNx缓冲层，与之对应的核心专利分别是Jp 2JP27952944499、JP7312350、Ep 1111663，前两个材料只在日本申请专利，后一个在日、美、欧、韩、以及中国台湾被专利保护，但在中国大陆没有同族专利。其他，多缓冲层技术在美国、欧洲、加拿大、澳大利亚被专利保护，在中国也没有同族专利。超晶格错位截断技术在美国、日本有专利保护，在中国没有同族专利。美国、欧洲、日本都有专利保护，中国没有同族专利。值得注意的是，由于横向外延生长技术在中国拥有同族专利权，缓冲层在材料方面，在中国市场使用以上材料制作专利的风险不大。主要的缓冲层技术因为在中国没有申请专利，所以这个技术领域的知识产权的风险不大。

在外延功能层中的发光区域核心专利中，日亚化学的正方形单量子阱Ep 1189289、科锐公司的未掺杂载波限制层的采用在中国具有同族专利权，除此之外，在一般的双重异质结量子阱、正方形多量子阱、三角量子阱、以及不对称量子阱、活性层和p型层之间缓冲层、作为载波限制层使用多量子屏障（MQB）等专利都没有在中国申请同族专利。在外延方面，国内企业面临一定的知识产权问题，但由于替代方案多，所以问题不大，注意回避的话应该可以避免这方面的问题。